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플라즈마 나노 보호 (PECVD)

플라즈마 나노 보호 (PECVD) 원칙

플라즈마 나노 보호 (PECVD) 원칙

플라즈마 나노 보호 (PECVD) 플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)을 활용하는 방식이다. (플라즈마 강화 화학 기상 증착) 나노 수준의 보호를 달성하는 기술. PECVD 기술은 마이크로파 또는 무선 주파수 방법을 통해 박막 구성 원자를 포함하는 가스를 이온화합니다., 국소적으로 플라즈마 형성. 플라즈마의 높은 화학적 반응성으로 인해, 반응이 쉽게 일어남, 방진 기능을 갖춘 나노 규모의 필름 증착 가능, 방수복, PCB 또는 PCBA의 부식 방지 기능.

PECVD 적용 시나리오

PECVD 기술을 활용해 다양한 박막 소재 제조 가능, 질화규소 필름과 같은, 탄화규소 필름, 산화 아연 필름, 등. 이러한 박막 재료는 광전자 장치에 중요한 응용 가치를 가지고 있습니다., 마이크로 전자 장치 및 센서. 증착 조건 및 전구체 농도를 제어하여, PECVD 기술은 PCB나 PCBA와 같은 보호된 전자 장치의 표면에 나노 수준의 코팅을 형성할 수 있습니다.. 이 코팅은 탁월한 보호 성능을 가질 수 있습니다., 방수와 같은, 방오, 부식 방지, 항균, 그리고 항산화 특성. 이 코팅은 다양한 실외 장비 보호에도 사용할 수 있습니다., 의료기기, 등.

PECVD 적용 시나리오

UGPCB, 장기간의 개발 끝에, 선도적인 PCB 및 PCBA 설계를 보유하고 있을 뿐만 아니라, 프로토타이핑, 및 생산 능력, 선도적인 PECVD 플라즈마 나노 보호 사업도 보유하고 있습니다., 회사 및 기타 PCB 또는 PCBA 제조업체를 위한 회로 기판 제품에 대한 장기 플라즈마 나노 보호 서비스 제공.

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